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      五氧化二鉭特性介紹

      2020-10-30

      五氧化二鉭是常用的高折射率材料,分子量441.89,熔點1800℃,在10-2Pa 真空下的蒸發溫度為1920℃,雜氣排放量小,可用鉭、鎢舟、線圈加熱蒸發,也可由鎢鉗堝加熱蒸發,用電子束加熱蒸發效果良好。

       

      五氧化二鉭化學特性穩定,可溶于熔融的硫酸氫鉀和氫氟酸,但是不溶于水或其它酸,經X射線衍射分析,五氧化二鉭原料為斜方晶系,經高溫燒結成鍍膜材料后轉為三斜晶系和四方晶系的混晶。

       

      五氧化二鉭薄膜穩定且不易結晶,其透明區為0.3~10μm,折射率為n=2.25(λ=0.4μm),n=2.1(λ=0.55μm,Ts=250℃)。在可見到紅外波段都是透明的,不管用電子槍蒸鍍、磁控濺射法或是離子束濺射法所鍍制,都比鍍制二氧化鈦要穩定。取五氧化二鉭加7%wt的鉭作為初始膜料時,鍍膜更加穩定。根據電子槍加離子輔助鍍膜及濺射鍍膜(Ta靶)的經驗,鍍五氧化二鉭比二氧化鈦膜容易得到更小吸收及散射的薄膜,且薄膜的沉積速率也可以快些,堆積密度接近于1,因此常被用來與二氧化硅搭配鍍低散射,低吸收的多層膜濾光片等。還可作為保護涂層,特別是在高溫環境中的應用。

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